X射線螢光分析儀(XRF)

NEX QC




 




產品說明





製程管控元素分析儀  油品、鍍液、塑膠、採礦等應用。





產品特點






可選配CCD攝影鏡頭可作微點分析
非破壞性分析11Na ~92U
適用於固體、液體、粉末、泥漿與薄膜樣品
高功率50KV 激發光源
搭配自動化濾光器提升靈敏度
全機觸控式操作介面
內建式印表機便於數據輸出




應用範圍






非破壞性分析11Na ~92U，適用於固體、液體、粉末與薄膜樣品
高功率50KV 激發光源、全機觸控式操作介面、可選配CCD攝影鏡頭可作微點分析
RoHS檢測、無鹵分析管控
電鍍液濃度分析(金、鎳、鐵、鋅等等)
塑膠添加劑成分分析
礦物金屬含量分析
鉻化砷銅(CCA)木材防腐前處理
化性阻燃劑15 P、35Br磷元素分析管控
油品分析 符合ASTM D4294、IP 496、IP336、EN ISO 8754、EN ISO 20847、JIS K 2541-4












參考影片

NEX QC+ QuantEZ




 




產品說明





Rigaku NEX QC+ QuantEZ能快速達到鈉(Na)~鈾(U)元素的定性與定量分析，並廣泛使用在各式樣品類型。
全機觸控式人性化操作介面，易於操作。
儀器設備整合電腦與熱印表機無需外接硬體，專為生產製程管控做最佳化、多功能的設計。
可與實驗室資訊管理系統(LIMS)或網路將分析儀做連結進行多端操控。
儀器設備選配：基本參數法(支援軟體)、氦氣填充裝置提升輕元素分析訊號靈敏度。





產品特點






非破壞性分析 Na(鈉) ~ U(鈾)
適用於固狀、液狀、粉末、泥漿與薄膜樣品
高功率50kV Xray 激發光源
全機觸控式操作介面
內建式印表機便於數據輸出
搭配自動化的濾光器提升靈敏度與選擇
搭配高精準度與低偵測極限性能的半導體 檢測器
可選配基本參數法(Fundamental Parameter) 解決無標準品的樣品分析，節省準備標準品的需求 










參考影片